ຫົວອາບນໍ້າ CVD ທີ່ມີການເຄືອບ SiC

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

ຫົວອາບນໍ້າ CVD ຂອງ Semicera ທີ່ມີ SiC Coat ແມ່ນຜະລິດຕະພັນທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ຖືກອອກແບບມາສໍາລັບການນໍາໃຊ້ການລະບາຍສານເຄມີ (CVD), ນໍາໃຊ້ການເຄືອບຊິລິຄອນຄາໄບຊັ້ນນໍາເພື່ອຮັບປະກັນການປະຕິບັດທີ່ດີເລີດໃນອຸນຫະພູມສູງແລະສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີການກັດກ່ອນ. ຫົວອາບນ້ໍາແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບການນໍາໃຊ້ວັດສະດຸເຊັ່ນ: quartz ແລະ wafers, optimizing ປະສິດທິພາບແລະຄຸນນະພາບຂອງຂະບວນການ deposition.

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ເປັນຫຍັງການເຄືອບ Silicon Carbide?

Semicera ມີຄວາມພູມໃຈທີ່ຈະແນະນໍາຫົວອາບນໍ້າ CVDກັບSiC ເຄືອບ, ເຊິ່ງຖືກອອກແບບມາເພື່ອຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງ semiconductor ທີ່ທັນສະໄຫມແລະຂົງເຂດວິທະຍາສາດວັດສະດຸສໍາລັບອຸປະກອນທີ່ມີປະສິດທິພາບແລະເຊື່ອຖືໄດ້. ການອອກແບບພິເສດSilicon Carbide ເຄືອບອະນຸຍາດໃຫ້ຫົວອາບນ້ໍານີ້ຮັກສາປະສິດທິພາບທີ່ດີເລີດພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂທາງເຄມີແລະຄວາມຮ້ອນທີ່ຮຸນແຮງ, ປັບປຸງຄວາມທົນທານຂອງອຸປະກອນຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ.

ໃນລະຫວ່າງການຂະບວນການ CVD, ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງຫົວອາບນໍ້າ CVDດ້ວຍ SiC Coat ຮັບປະກັນຄວາມເປັນເອກະພາບແລະຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງການຝາກວັດສະດຸ, ໂດຍສະເພາະໃນເວລາທີ່ການປຸງແຕ່ງ quartz ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະ.wafers. ໂດຍຜ່ານເທກໂນໂລຍີການເຄືອບທີ່ດີທີ່ສຸດ, ຫົວອາບນ້ໍາຂອງ Semicera ສາມາດຫຼຸດຜ່ອນເວລາຕິກິຣິຍາ, ປັບປຸງປະສິດທິພາບຂະບວນການໂດຍລວມ, ແລະຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການຜະລິດ.

ນອກຈາກນັ້ນ, ຫົວອາບນ້ໍາແມ່ນເຫມາະສົມກັບການເຄືອບ TACເຕັກໂນໂລຊີ, ໃຫ້ລູກຄ້າມີທາງເລືອກໃນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ມີຄວາມຍືດຫຍຸ່ນຫຼາຍ. ທີມງານ R & D ຂອງ Semicera ຍັງສືບຕໍ່ຄົ້ນຫາອຸປະກອນແລະເຕັກໂນໂລຢີທີ່ກ້າວຫນ້າເພື່ອຮັບປະກັນການແຂ່ງຂັນແລະຕໍາແຫນ່ງຊັ້ນນໍາຂອງ CVD Shower Head ກັບ SiC Coat ໃນຕະຫຼາດ.

ການເລືອກຫົວອາບນ້ໍາ CVD ຂອງ Semicera ກັບ SiC Coat, ທ່ານຈະໄດ້ຮັບຜະລິດຕະພັນທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງ, ເຊື່ອຖືໄດ້ທີ່ຊ່ວຍໃຫ້ທ່ານບັນລຸຜົນການຝາກເງິນທີ່ດີທີ່ສຸດໃນຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ CVD ຂອງທ່ານ. Semicera ສະເຫມີມຸ່ງຫມັ້ນທີ່ຈະສະຫນອງລູກຄ້າດ້ວຍການແກ້ໄຂ semiconductor ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງແລະສົ່ງເສີມການພັດທະນາແລະນະວັດກໍາຂອງອຸດສາຫະກໍາ.