Tantalum Carbide ເຄືອບ Graphite Cover

ລາຍ​ລະ​ອຽດ​ສັ້ນ​:

ການເຄືອບ Tantalum carbide ເປັນເທກໂນໂລຍີການເຄືອບດ້ານທີ່ກ້າວຫນ້າທີ່ໃຊ້ວັດສະດຸ tantalum carbide ເພື່ອສ້າງເປັນຊັ້ນປ້ອງກັນທີ່ແຂງ, ທົນທານຕໍ່ການສວມໃສ່ແລະທົນທານຕໍ່ການກັດກ່ອນ. ການເຄືອບນີ້ມີຄຸນສົມບັດທີ່ດີເລີດທີ່ເພີ່ມຂຶ້ນຢ່າງຫຼວງຫຼາຍຂອງຄວາມແຂງຂອງວັດສະດຸ, ຄວາມຕ້ານທານອຸນຫະພູມສູງແລະການຕໍ່ຕ້ານສານເຄມີ, ໃນຂະນະທີ່ຫຼຸດຜ່ອນ friction ແລະການສວມໃສ່. ການເຄືອບ Tantalum carbide ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຂົງເຂດຕ່າງໆ, ລວມທັງການຜະລິດອຸດສາຫະກໍາ, ການບິນອະວະກາດ, ວິສະວະກໍາຍານຍົນແລະອຸປະກອນການແພດ, ເພື່ອຍືດອາຍຸວັດສະດຸ, ປັບປຸງປະສິດທິພາບການຜະລິດແລະຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການບໍາລຸງຮັກສາ. ບໍ່ວ່າຈະເປັນການປົກປ້ອງພື້ນຜິວໂລຫະຈາກການກັດກ່ອນຫຼືການເພີ່ມຄວາມທົນທານຕໍ່ການສວມໃສ່ແລະການຕໍ່ຕ້ານການຜຸພັງຂອງພາກສ່ວນກົນຈັກ, ການເຄືອບ tantalum carbide ສະຫນອງການແກ້ໄຂທີ່ເຊື່ອຖືໄດ້ສໍາລັບການນໍາໃຊ້ທີ່ຫລາກຫລາຍ.

 


ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

Semicera ສະຫນອງການເຄືອບ tantalum carbide (TaC) ພິເສດສໍາລັບອົງປະກອບຕ່າງໆແລະຜູ້ໃຫ້ບໍລິການ.ຂະບວນການເຄືອບຊັ້ນນໍາຂອງ Semicera ຊ່ວຍໃຫ້ການເຄືອບ tantalum carbide (TaC) ບັນລຸຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ຄວາມຫມັ້ນຄົງຂອງອຸນຫະພູມສູງແລະຄວາມທົນທານຕໍ່ສານເຄມີສູງ, ການປັບປຸງຄຸນນະພາບຜະລິດຕະພັນຂອງໄປເຊຍກັນ SIC / GAN ແລະຊັ້ນ EPI (ຕົວຍຶດ TaC ເຄືອບ Graphite), ແລະຍືດອາຍຸຂອງອົງປະກອບເຕົາປະຕິກອນທີ່ສໍາຄັນ. ການນໍາໃຊ້ການເຄືອບ tantalum carbide TaC ແມ່ນເພື່ອແກ້ໄຂບັນຫາແຂບແລະປັບປຸງຄຸນນະພາບຂອງການເຕີບໂຕຂອງຜລຶກ, ແລະ Semicera Semicera ໄດ້ແກ້ໄຂເຕັກໂນໂລຢີການເຄືອບ tantalum carbide (CVD), ກ້າວໄປສູ່ລະດັບສາກົນທີ່ກ້າວຫນ້າ.

 

ຫຼັງຈາກປີຂອງການພັດທະນາ, Semicera ໄດ້ເອົາຊະນະເຕັກໂນໂລຢີຂອງCVD TaCກັບຄວາມພະຍາຍາມຮ່ວມກັນຂອງພະແນກ R&D. ຂໍ້ບົກພ່ອງແມ່ນງ່າຍທີ່ຈະເກີດຂື້ນໃນຂະບວນການຂະຫຍາຍຕົວຂອງ SiC wafers, ແຕ່ຫຼັງຈາກການນໍາໃຊ້ທາຄ, ຄວາມແຕກຕ່າງແມ່ນສໍາຄັນ. ຂ້າງລຸ່ມນີ້ແມ່ນການປຽບທຽບຂອງ wafers ທີ່ມີແລະບໍ່ມີ TaC, ເຊັ່ນດຽວກັນກັບສ່ວນ Simicera ສໍາລັບການເຕີບໃຫຍ່ຂອງຜລຶກດຽວ.

微信图片_20240227150045

ມີ ແລະບໍ່ມີ TaC

微信图片_20240227150053

ຫຼັງຈາກໃຊ້ TaC (ຂວາ)

ນອກຈາກນັ້ນ, ຊີວິດການບໍລິການຂອງຜະລິດຕະພັນການເຄືອບ TaC ຂອງ Semicera ແມ່ນຍາວກວ່າແລະທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງກ່ວາການເຄືອບ SiC. ຫຼັງຈາກຂໍ້ມູນການວັດແທກໃນຫ້ອງທົດລອງເປັນເວລາດົນ, TaC ຂອງພວກເຮົາສາມາດເຮັດວຽກເປັນເວລາດົນນານຢູ່ທີ່ສູງສຸດ 2300 ອົງສາເຊນຊຽດ. ຕໍ່ໄປນີ້ແມ່ນບາງຕົວຢ່າງຂອງພວກເຮົາ:

微信截图_20240227145010

(a) ແຜນວາດແຜນຜັງຂອງອຸປະກອນການຂະຫຍາຍຕົວໄປເຊຍກັນ SiC ໂດຍວິທີ PVT (ຂ) ວົງເລັບເມັດທີ່ເຄືອບ TaC (ລວມທັງແກ່ນ SiC) (c) ວົງເລັບຄູ່ມື graphite ເຄືອບ TAC

ZDFVzCFV
ຄຸນນະສົມບັດຕົ້ນຕໍ
ສະຖານທີ່ເຮັດວຽກ Semicera
ບ່ອນ​ເຮັດ​ວຽກ Semicera 2
ເຄື່ອງອຸປະກອນ
ການປຸງແຕ່ງ CNN, ການເຮັດຄວາມສະອາດສານເຄມີ, ການເຄືອບ CVD
ບໍລິການຂອງພວກເຮົາ

  • ທີ່ຜ່ານມາ:
  • ຕໍ່ໄປ: