ຂ່າວ

  • ທໍ່ຂະບວນການເຄືອບ CVD ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    ທໍ່ຂະບວນການເຄືອບ CVD ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    ທໍ່ຂະບວນການເຄືອບ CVD ເປັນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນທີ່ໃຊ້ໃນສະພາບແວດລ້ອມການຜະລິດທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງແລະຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ເຊັ່ນ: ການຜະລິດ semiconductor ແລະ photovoltaic. ທີ່ Semicera, ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດທໍ່ຂະບວນການເຄືອບ CVD ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ສະເຫນີ supe ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • Isostatic Graphite ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    Isostatic Graphite ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    Isostatic graphite, ຊຶ່ງເອີ້ນກັນວ່າ graphite ສ້າງຕັ້ງຂຶ້ນ isostatically, ຫມາຍເຖິງວິທີການທີ່ສ່ວນປະສົມຂອງວັດຖຸດິບຖືກບີບອັດເປັນຮູບສີ່ຫລ່ຽມຫຼືມົນໃນລະບົບທີ່ເອີ້ນວ່າການກົດ isostatic ເຢັນ (CIP). ການກົດ isostatic ເຢັນແມ່ນວິທີການປຸງແຕ່ງວັດສະດຸແລະ ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • Tantalum Carbide ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    Tantalum Carbide ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    Tantalum carbide ແມ່ນວັດສະດຸເຊລາມິກທີ່ແຂງທີ່ສຸດທີ່ຮູ້ຈັກສໍາລັບຄຸນສົມບັດພິເສດຂອງມັນ, ໂດຍສະເພາະໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ. ທີ່ Semicera, ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການສະຫນອງ tantalum carbide ຄຸນນະພາບສູງສຸດທີ່ສະຫນອງການປະຕິບັດທີ່ເຫນືອກວ່າໃນອຸດສາຫະກໍາທີ່ຕ້ອງການວັດສະດຸທີ່ກ້າວຫນ້າສໍາລັບທີ່ສຸດ ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • ທໍ່ Core Furnace Quartz ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    ທໍ່ Core Furnace Quartz ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    ທໍ່ແກນ furnace quartz ແມ່ນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນໃນສະພາບແວດລ້ອມການປຸງແຕ່ງທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ, ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນອຸດສາຫະກໍາເຊັ່ນການຜະລິດ semiconductor, ໂລຫະ, ແລະການປຸງແຕ່ງສານເຄມີ. ທີ່ Semicera, ພວກເຮົາມີຄວາມຊ່ຽວຊານໃນການຜະລິດທໍ່ແກນ furnace quartz ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ຮູ້ຈັກ ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • ຂະບວນການ Etching ແຫ້ງ

    ຂະບວນການ Etching ແຫ້ງ

    ຂະບວນການ etching ແຫ້ງປົກກະຕິແລ້ວປະກອບດ້ວຍສີ່ລັດພື້ນຖານ: ກ່ອນທີ່ຈະ etching, etching ບາງສ່ວນ, ພຽງແຕ່ etching, ແລະ over etching. ລັກສະນະຕົ້ນຕໍແມ່ນອັດຕາການ etching, ການຄັດເລືອກ, ມິຕິທີ່ສໍາຄັນ, ຄວາມເປັນເອກະພາບ, ແລະການຊອກຄົ້ນຫາຈຸດສິ້ນສຸດ. ຮູບທີ 1 ກ່ອນທີ່ຈະ etching ຮູບ 2 ການ etching ບາງສ່ວນ ຮູບ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • SiC Paddle ໃນການຜະລິດ Semiconductor

    SiC Paddle ໃນການຜະລິດ Semiconductor

    ໃນຂົງເຂດການຜະລິດ semiconductor, SiC Paddle ມີບົດບາດສໍາຄັນ, ໂດຍສະເພາະໃນຂະບວນການເຕີບໂຕຂອງ epitaxial. ໃນຖານະເປັນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນທີ່ໃຊ້ໃນ MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), ລະບົບ SiC Paddles ໄດ້ຖືກອອກແບບເພື່ອທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງແລະ ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • Wafer Paddle ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    Wafer Paddle ແມ່ນຫຍັງ? | Semicera

    wafer paddle ເປັນອົງປະກອບທີ່ສໍາຄັນທີ່ໃຊ້ໃນອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ແລະ photovoltaic ເພື່ອຈັດການ wafers ໃນລະຫວ່າງການຂະບວນການທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ. ທີ່ Semicera, ພວກເຮົາມີຄວາມພາກພູມໃຈໃນຄວາມສາມາດຂັ້ນສູງຂອງພວກເຮົາໃນການຜະລິດ wafer paddles ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການທີ່ເຄັ່ງຄັດຂອງ ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • ຂະບວນການແລະອຸປະກອນ semiconductor (7/7)- ຂະບວນການແລະອຸປະກອນການເຕີບໃຫຍ່ຂອງຮູບເງົາບາງໆ

    ຂະບວນການແລະອຸປະກອນ semiconductor (7/7)- ຂະບວນການແລະອຸປະກອນການເຕີບໃຫຍ່ຂອງຮູບເງົາບາງໆ

    1. ການນໍາສະເໜີ ຂະບວນການຕິດສານ (ວັດຖຸດິບ) ໃສ່ພື້ນຜິວຂອງວັດສະດຸຍ່ອຍ ໂດຍວິທີການທາງກາຍະພາບ ຫຼືທາງເຄມີ ເອີ້ນວ່າ ການຈະເລີນເຕີບໂຕຂອງຮູບເງົາບາງໆ. ອີງຕາມຫຼັກການການເຮັດວຽກທີ່ແຕກຕ່າງກັນ, ການຊຶມເຊື້ອຂອງແຜ່ນບາງໆໃນວົງຈອນສາມາດແບ່ງອອກເປັນ: - ການຊຶມເຊື້ອຂອງອາຍພິດທາງກາຍະພາບ (. ປ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • ຂະບວນການ ແລະອຸປະກອນ semiconductor (6/7)- ຂະບວນການປູກຝັງ ແລະ ອຸປະກອນ Ion

    ຂະບວນການ ແລະອຸປະກອນ semiconductor (6/7)- ຂະບວນການປູກຝັງ ແລະ ອຸປະກອນ Ion

    1. ການແນະນໍາ Ion implantation ແມ່ນຫນຶ່ງໃນຂະບວນການຕົ້ນຕໍໃນການຜະລິດວົງຈອນປະສົມປະສານ. ມັນຫມາຍເຖິງຂະບວນການເລັ່ງ ion beam ໄປສູ່ພະລັງງານສະເພາະໃດຫນຶ່ງ (ໂດຍທົ່ວໄປໃນຂອບເຂດຂອງ keV ກັບ MeV) ແລະຫຼັງຈາກນັ້ນສີດເຂົ້າໄປໃນພື້ນຜິວຂອງວັດສະດຸແຂງເພື່ອປ່ຽນ prop ທາງດ້ານຮ່າງກາຍ ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • Semiconductor ຂະ​ບວນ​ການ​ແລະ​ອຸ​ປະ​ກອນ (5/7​)- ຂະ​ບວນ​ການ Etching ແລະ​ອຸ​ປະ​ກອນ​

    Semiconductor ຂະ​ບວນ​ການ​ແລະ​ອຸ​ປະ​ກອນ (5/7​)- ຂະ​ບວນ​ການ Etching ແລະ​ອຸ​ປະ​ກອນ​

    ຫນຶ່ງແນະນໍາ Etching ໃນຂະບວນການຜະລິດວົງຈອນປະສົມປະສານແມ່ນແບ່ງອອກເປັນ: - etching ປຽກ; - etching ແຫ້ງ. ໃນຕອນຕົ້ນ, etching ຊຸ່ມໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງ, ແຕ່ເນື່ອງຈາກຂໍ້ຈໍາກັດຂອງຕົນໃນການຄວບຄຸມ width line ແລະທິດທາງ etching, ຂະບວນການສ່ວນໃຫຍ່ຫຼັງຈາກ3μmໃຊ້ etching ແຫ້ງ. ການຂັດປຽກແມ່ນ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • ຂະບວນການ ແລະອຸປະກອນ semiconductor (4/7)- ຂະບວນການ Photolithography ແລະອຸປະກອນ

    ຂະບວນການ ແລະອຸປະກອນ semiconductor (4/7)- ຂະບວນການ Photolithography ແລະອຸປະກອນ

    One Overview ໃນຂະບວນການຜະລິດວົງຈອນປະສົມປະສານ, photolithography ແມ່ນຂະບວນການຫຼັກທີ່ກໍານົດລະດັບການເຊື່ອມໂຍງຂອງວົງຈອນປະສົມປະສານ. ຫນ້າທີ່ຂອງຂະບວນການນີ້ແມ່ນເພື່ອສົ່ງແລະໂອນຂໍ້ມູນກາຟິກວົງຈອນຈາກຫນ້າກາກຢ່າງຊື່ສັດ (ຍັງເອີ້ນວ່າຫນ້າກາກ) ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
  • ຖາດ Square Silicon Carbide ແມ່ນຫຍັງ

    ຖາດ Square Silicon Carbide ແມ່ນຫຍັງ

    Silicon Carbide Square Tray ແມ່ນເຄື່ອງມືບັນຈຸທີ່ມີປະສິດຕິພາບສູງທີ່ຖືກອອກແບບມາສໍາລັບການຜະລິດແລະການປຸງແຕ່ງ semiconductor. ມັນສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຖືກນໍາໃຊ້ເພື່ອປະຕິບັດວັດສະດຸທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍໍາເຊັ່ນ: wafers ຊິລິໂຄນແລະ silicon carbide wafers. ເນື່ອງຈາກຄວາມແຂງສູງທີ່ສຸດ, ຄວາມທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມສູງ, ແລະສານເຄມີ ...
    ອ່ານເພີ່ມເຕີມ