SemiceraTantalum Carbideເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ MOCVD ຖືກສ້າງຂຶ້ນສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງທີ່ຕ້ອງການທີ່ສຸດ, ສາມາດສູງເຖິງ 2300 ° C. ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນເຫຼົ່ານີ້ໃຫ້ຄວາມຫມັ້ນຄົງດ້ານຄວາມຮ້ອນພິເສດ, ຮັບປະກັນການປະຕິບັດທີ່ສອດຄ່ອງແລະເຊື່ອຖືໄດ້ໃນຂະບວນການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີຂອງໂລຫະ - ອິນຊີ (MOCVD). Semicera ຮັບປະກັນຜະລິດຕະພັນທີ່ດີເລີດໃນຄວາມທົນທານແລະຄວາມແມ່ນຍໍາ, ເຫມາະສົມກັບຄວາມຕ້ອງການຂອງອຸດສາຫະກໍາຕັດ.
ອອກແບບໂດຍນໍາໃຊ້ວັດສະດຸ tantalum carbide ກ້າວຫນ້າ, ເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ MOCVD ເຫຼົ່ານີ້ສະຫນອງການຕໍ່ຕ້ານການຜຸພັງແລະການກັດກ່ອນຂອງສານເຄມີ, ເຖິງແມ່ນວ່າຢູ່ໃນອຸນຫະພູມສູງ. ຄວາມທົນທານນີ້ເຮັດໃຫ້ພວກເຂົາເປັນທາງເລືອກທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບການຜະລິດ semiconductor, epitaxy, ແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກອື່ນໆທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງທີ່ຕ້ອງການຄວາມແມ່ນຍໍາແລະຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖື.
ຄຸນສົມບັດຄວາມຮ້ອນທີ່ດີກວ່າຂອງ SemiceraTantalum Carbideເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ MOCVD ປະກອບສ່ວນເຂົ້າໃນຂະບວນການເພີ່ມປະສິດທິພາບ. ການກໍ່ສ້າງທີ່ເຂັ້ມແຂງຂອງເຂົາເຈົ້າຫຼຸດຜ່ອນການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນແລະການສູນເສຍຄວາມຮ້ອນ, ຮັບປະກັນການແຜ່ກະຈາຍອຸນຫະພູມເປັນເອກະພາບໃນທົ່ວ substrate. ນີ້ນໍາໄປສູ່ການປັບປຸງຄຸນນະພາບຂອງຜະລິດຕະພັນແລະຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນການດໍາເນີນງານຫຼຸດລົງ.
Semicera ແມ່ນອຸທິດຕົນເພື່ອສະຫນອງເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນທີ່ບໍ່ພຽງແຕ່ຕອບສະຫນອງແຕ່ເກີນມາດຕະຖານອຸດສາຫະກໍາ. ແຕ່ລະTantalum Carbideເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ MOCVD ດໍາເນີນມາດຕະການຄວບຄຸມຄຸນນະພາບຢ່າງເຂັ້ມງວດເພື່ອຮັບປະກັນການປະຕິບັດສູງສຸດ. ດ້ວຍເວລານໍາ 30 ມື້, Semicera ສະຫນອງຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືແລະຄວາມໄວທີ່ຕ້ອງການໂດຍການດໍາເນີນງານອຸດສາຫະກໍາທີ່ທັນສະໄຫມ.
ບໍ່ວ່າຈະຢູ່ໃນຂົງເຂດ semiconductor, aerospace, ຫຼືຂົງເຂດການຄົ້ນຄວ້າວັດສະດຸ, SemiceraTantalum Carbideເຄື່ອງເຮັດຄວາມຮ້ອນ MOCVD ແມ່ນການແກ້ໄຂໄປສູ່ການບັນລຸຜົນໄດ້ຮັບທີ່ດີກວ່າໃນຂະບວນການທີ່ມີອຸນຫະພູມສູງ. ປະສິດທິພາບພິເສດຂອງເຂົາເຈົ້າຢູ່ທີ່ 2300 ° C ເຮັດໃຫ້ພວກເຂົາຂາດບໍ່ໄດ້ສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ຄວາມແມ່ນຍໍາແລະຄວາມທົນທານແມ່ນສໍາຄັນທີ່ສຸດ.
ມີ ແລະບໍ່ມີ TaC
ຫຼັງຈາກໃຊ້ TaC (ຂວາ)
